高溫水氧腐蝕測(cè)試的核心應(yīng)用與功能解

高溫水氧腐蝕測(cè)試是一種通過(guò)模擬高溫、高水蒸氣分壓及特定氧氣濃度環(huán)境，評(píng)估材料在極端工況下耐腐蝕性的關(guān)鍵技術(shù)手段。其核心價(jià)值在于為材料選擇、安全評(píng)估及腐蝕機(jī)理研究提供科學(xué)依據(jù)，廣泛應(yīng)用于航空航天、核電、化工等領(lǐng)域。

2025

07-22

馬弗爐-實(shí)驗(yàn)室化學(xué)分析、物理測(cè)定和一般小型鋼件淬火、退火、回火等熱處理

馬弗爐（Muffle furnace），在中國(guó)的通用叫法有電爐、電阻爐、茂福爐、馬福爐等，是一種通用的加熱設(shè)備。 工作原理與結(jié)構(gòu) 馬弗爐通常是爐膛為箱形的加熱爐，其內(nèi)部結(jié)構(gòu)較為復(fù)雜。爐膛采用不銹鋼板制作，圍成加熱及熱風(fēng)循環(huán)腔體，熱空氣在爐膛內(nèi)流動(dòng)，可大大提高溫度均勻性。由于熱風(fēng)的攪拌，加強(qiáng)了爐膛內(nèi)氣氛的對(duì)流和均熱作用。爐膛和爐架為分離設(shè)計(jì)，爐膛置于爐架底部的承重滾輪上，前后可自由滑動(dòng)，當(dāng)爐膛受熱時(shí)，可沿長(zhǎng)度方向自由伸長(zhǎng)。內(nèi)層采用陶瓷纖維繩密封結(jié)構(gòu)，外層采用硅橡膠密封圈密封。為延長(zhǎng)其使用壽命，在爐膛口密封處設(shè)計(jì)有不銹鋼冷卻水套，用于冷卻降溫。門鎖采用多點(diǎn)手輪旋轉(zhuǎn)方式鎖緊機(jī)構(gòu)，可以同時(shí)對(duì)門四周均勻鎖緊。另外爐門固定裝置安裝于爐膛端面，采用活動(dòng)雙鉸鏈機(jī)構(gòu)，可隨爐膛自由伸長(zhǎng)而移動(dòng)，以保證良好的密封效果。

2025

07-14

廠家在選購(gòu)箱式高溫爐時(shí)需要注意什么？

在選購(gòu)箱式高溫爐時(shí)，可參考以下要點(diǎn)：- 溫度范圍和精度：根據(jù)需要加熱物體的最高溫度，選擇能覆蓋該范圍的高溫爐，同時(shí)對(duì)于高精度加熱操作，要關(guān)注控溫精度，如控溫精度小于±1℃為佳。 - 加熱功率和速度：依據(jù)加熱物體的體積和加熱速度要求選合適功率，功率影響加熱速度。此外，還需關(guān)注升溫速度和降溫速度，這會(huì)影響實(shí)驗(yàn)或生產(chǎn)效率。

2025

07-07

管式爐在實(shí)驗(yàn)中有哪些應(yīng)用？

管式爐是實(shí)驗(yàn)室常用的加熱設(shè)備，憑借其溫度控制精準(zhǔn)、加熱均勻且能在特定氣氛（如惰性氣體、還原性氣體等）下工作的特點(diǎn)，應(yīng)用廣泛，主要包括以下幾類：

2025

07-07

管式電爐生產(chǎn)廠家，高溫管式電爐在實(shí)驗(yàn)室中的應(yīng)用解析

管式電爐在實(shí)驗(yàn)室中主要用于高溫加熱、氣氛保護(hù)下的化學(xué)反應(yīng)、材料制備與處理等場(chǎng)景，具體應(yīng)用包括：材料科學(xué)研究 ? - 燒結(jié)與退火：金屬、陶瓷、半導(dǎo)體等材料的高溫?zé)Y(jié)（如制備納米粉體、陶瓷元器件），或退火處理以改善材料性能。 - 晶體生長(zhǎng)：配合氣氛控制（如惰性氣體、氫氣等），用于半導(dǎo)體晶體（如硅、碳化硅）的生長(zhǎng)。 - 涂層制備：通過(guò)化學(xué)氣相沉積（CVD）或物理氣相沉積（PVD）技術(shù)，在材料表面制備薄膜（如石墨烯、氧化物涂層）。

2025

05-06

管式電爐廠家 天津中環(huán)電爐助力科研

天津中環(huán)電爐股份有限公司在助力科研方面發(fā)揮了重要作用，以下是具體介紹： ? 產(chǎn)品種類豐富 ? - 多工位管式爐：采用高純石英管作為爐管，工作溫度區(qū)間300℃至1200℃，具有安全可靠、操作簡(jiǎn)單、控溫精度高、保溫效果好等特點(diǎn)，可通氣氛抽真空，廣泛應(yīng)用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實(shí)驗(yàn)和批量生產(chǎn)。 ? - 雙溫區(qū)管式爐：兩個(gè)加熱區(qū)域可單獨(dú)設(shè)置不同溫度，適用于各種需要不同溫度處理的工藝，在金屬冶煉與燒結(jié)、陶瓷與玻璃工業(yè)、化工、電子、新能源等領(lǐng)域以及科研機(jī)構(gòu)中得到了廣泛應(yīng)用。 ? - 1200℃預(yù)加熱滑動(dòng)雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)：由1200度開(kāi)啟式雙溫區(qū)真空管式爐、滑動(dòng)系統(tǒng)、預(yù)加熱開(kāi)啟式管式電爐、等離子射頻電源、多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)等組成，具有生長(zhǎng)溫度低、沉積速率快、成膜質(zhì)量好、適用范圍廣、設(shè)備簡(jiǎn)單等特點(diǎn)。

2025

04-29